來越細，使得對於晶片生產的光刀要求越來越精細。

而這樣的光到需要多長更短的光源才能夠生產製程更低的晶片。

上個世紀光刻機光源卡死在193奈米這道坎上，這也成為了整個產業的一道難關。

怎麼將193奈米光波磨細一點，成為了整個光刻機行業的頭等難題。

只要誰能夠突破這道難題，就能夠真正的把握整個光刻機未來的發展方向。

在其他廠商都在研發極紫光技術，尋求突破時，阿斯麥採用了臺積電提出的沉浸式光刻機方案真正的實現了彎道超車突破了193奈米的難關。

這種方案就是在光刻機的中間加入大量的水，透過詳細的計算使得原先的光束在經過水的折射之後變得更細，從而實現更為精細的奈米制程工藝生產。

當然這種方案非常的耗費生產的成本，不過由於這種方法是一種技術方面突破自然被行業廣泛運用。

而臺積電和阿斯麥由於擁有著非常緊密的合作，最終臺積電也靠著阿斯麥的彎道超車，真正意義上的從島國的手中奪得了半導體生產霸主的位置。

以幹刻技術為主的尼康等老牌半導體漸漸的落寞，最終消失在時代的洪流中。

而靠著溼刻技術正是崛起的阿斯麥也成為了整個半導體光刻機行業之中的霸主，壟斷了整個光刻機行業80以上的份額。

“這是極紫光技術！”

科學院眾人看著手中列印出來的文字，臉上也露出了不可思議的神色。

顯然這項技術可是關係著未來國內半導體行業的興衰。

去年年底，唐浩便將這些技術交給了華國科學院的主打半導體領域的學士。

而唐浩的這項發展研發光刻機的技術正是和阿斯麥相反的極紫光技術，這種技術是透過專門的幾次反射到達光線波長符合更為精細的光刀。

這些半導體領域的學士在看到這樣的技術之後，也完全的被震驚到了。

雖然這上面寫的可是理論方面的知識，但是要知道上個世紀西方可謂是費盡周折，都無法將這項技術突破，最後只能暫時的選擇阿斯麥的方式去生產光刻機。

而運用了唐浩的這樣的理論知識，若是真的能夠真正的將理論實現，那麼很有可能國內的半導體行業將會迎來又一次的彎道超車，從而實現真正的復興。

“唐先生的這項技術我們幾個已經完全的驗證了，基本上是正確的，按照唐先生所說，若是能夠真的將理論實現的話，那麼我們國內的光刻機技術立馬就可以進入七奈米以內的時代！並且隨著技術核心材料的變動，製程還能更進一步！”

“同時上面也同意以科學院為首，唐浩個人，國資委，上海微電子公司四方進行合作，這是成立一家專門研發新技術光刻機的公司！”

“國家預計出資三千億元，務必能夠生產出我們華國自己的光刻機！”

作為這一次會談的主持人，一個年過70的院士，緩緩地從位子上面站了起來，語氣極為激動地向著其他的院士說道。

顯然如今的國家已經開始重視半導體的發展，當唐浩拿出了這樣的技術之後，就已經註定了國家必須要參與進這項半導體事業。

估計再過不久，一家新的光刻機生產公司便會出現在國內。

預計在明年或者是後年，華國便會擁有了自主研發的光刻機！

而在座的眾多院士也是面色激動，有些甚至老淚縱橫，很顯然他們等待這一天等了太久。

畢竟只要半導體的技術突破了，那麼華國崛起將無所畏懼。